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重要的準分子激光，以稀有氣體的鹵化物為自動介質，如ArF, KrF, XeF, KrCl, XeCl等。因為受激態常以星號(*)上標表示，所以有些數據上寫成ArF*等。準分子不會天然出現，而是在氣體混合物中放電時形成的。激光混合氣中的發生氣體是激光發生器上用來產生激光的氣體，對氣體質量要求高，激光混合氣配制精度要求高，高純二氧化碳純度達99.999%，高純氮氣的純度99.999%，高純氦氣的純度要求99.999%，二氧化碳是產生激光的，氦氣是冷卻激光器的，氮氣是平衡氣體，氣體中的水分、氧份、有機氣體雜質對激光機的鏡片損傷特別大，能快速減少鏡片的壽命。所以激光機對這些氣體的質量要求特別高。20W機型可發生275.4至1090.0 nm的一些激光光。主要的可見光波長分別是514.5、501.7、496.5、 488.0、476.5、472.7、465.8、457.9、454.5 nm。藍綠光波段中，而的是514.5及488 nm。氪離子激光可發生337.4至799.3 nm，的是647.1 nm，其次為413.1及530.9 nm。產品中，有將氬氣與氪氣混合的機型。

準分子(Excimer)激光：準分子一詞的本意，是「兩個同種原子組成，而只存在于受激態的分子」，如稀有氣體分子He2、Ar2、Xe2等；其英文原名為 Excited Dimer 組合成的術語。現在現已將它的適用范圍放寬，以包含「不存在于基態，只以受激態出現的任何雙原子分子(有時還包含三原子分子)」。分子氣體：二氧化碳激光和氮氣激光是常見的分子氣體激光，其主要激光光分屬紅外線(10,640 nm)及紫外線(337 nm)。生物組織中的水分會吸收它的10,640 nm激光光，所以能用于手術，所需激光光功率約為50W。此外，非金屬材料的加工、金屬表面的熱處理、光譜學及光化學研討、環境遙測、測距、激起其他激光、發生離子體(俗稱電漿；Plasma)等，也都可用二氧化碳激光來進行。激光氣體中的發生氣體時激光發生器上用來產生激光的氣體，對氣體質量要求高，激光混合氣配制精度要求高，高純二氧化碳純度達99.999%，高純氮氣的純度99.999%，高純氦氣的純度要求99.999%，二氧化碳是產生激光的，氦氣是冷卻激光器的，氮氣是平衡氣體，氣體中的水分、氧份、有機氣體雜質對激光機的鏡片損傷特別大，能快速減少鏡片的壽命。所以激光機對這些氣體的質量要求特別高。

如果將氦(He)氖(Ne)激光作為代氣體激光，二氧化碳激光是第二代氣體激光，在半導體制造領域將大量使用的氟化氪(KrF)激光，可稱為第三代激光。激光切割輔助氣體主要是干燥空氣、高純氮氣或工業氧氣，當切割不銹鋼板或是切割鋁板時一般使用高純氮氣作為輔助氣體，一般壓力要求比較高。 激光混合氣中的發生氣體是激光發生器上用來產生激光的氣體，對氣體質量要求高，激光混合氣配制精度要求高，高純二氧化碳純度達99.999%，高純氮氣的純度99.999%，高純氦氣的純度要求99.999%，二氧化碳是產生激光的，氦氣是冷卻激光器的，氮氣是平衡氣體，氣體中的水分、氧份、有機氣體雜質對激光機的鏡片損傷特別大，能快速減少鏡片的壽命。所以激光機對這些氣體的質量要求特別高。

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