由碳與氟反應,或一氧1化碳與氟反應,或碳化硅與氟反應,或氟石與石油焦在電爐里反應,或二氟二氯甲1烷與氟化1氫反應,或四氯1化碳與氟化銀反應,或四氯1化碳與氟化1氫反應,都能生成四氟化碳。將其通過裝有氫1氧化鈉溶液的洗氣瓶除去四氟1化硅,隨后通過硅膠和五氧1化二磷干燥塔得到終產品。由于化學穩定性極強,CF4還可以用于金屬冶煉和塑料行業等。以活性炭與氟為原料經氟化反應制備。在裝有活性炭的反應爐中,緩緩通入高濃氟氣,并通過加熱器加熱、供氟速率和反應爐冷卻控制反應溫度。
四氟化碳的密度比較高,可以填滿地面空間范圍,在不通風的地方會導致窒息。四氟化碳成品應存放在陰涼,干燥,通風的庫房內,嚴禁曝曬,遠離熱源。四氟化碳是可作為氟和自由基氟化碳的來源,用于各種晶片蝕刻工藝。四氟化碳和氧結合用以蝕刻多晶硅、二氧化硅和氮化硅。四氟化碳是目前微電子工業中用量大的等離子蝕刻氣體,其高純氣及四氟化碳高純氣配高純氧氣的混合體,可廣泛應用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及鎢薄膜材料的蝕刻。
常溫常壓下穩定,避免強氧化劑、可燃物。不燃氣體,遇高熱后容器內壓增大,有開裂、炸危險。化學性質穩定,不燃。常溫下只有液氨-試劑能發生作用。四氟化碳貯存注意事項:氣瓶使用和檢驗遵照《氣瓶安全監察規程》的規定。氣瓶內的氣體不能全部用盡,應該留不小于0.04MPa剩余壓力。隨著手機、相機、太陽能電池等消費電子產品的需求量不斷攀升,高純度四氟化碳將成為四氟化碳行業的主要增長動力。
您好,歡迎蒞臨安徽譜純,歡迎咨詢...
觸屏版二維碼 |